1. การแนะนำผลิตภัณฑ์

แมกนีเซียมฟลูออไรด์ (MgF₂, CAS 7783-40-6) เป็นสารประกอบอนินทรีย์ฟลูออไรด์เกรดออปติคัล มีชื่อเสียงในด้านความโปร่งใสของ VUV/DUV ที่ยอดเยี่ยม และเป็นวัสดุเคลือบออปติคัลที่ทนทานดัชนีหักเหต่ำที่สุดที่มีอยู่ การตกผลึกในโครงสร้างรูไทล์แบบ tetragonal (P4₂/mnm, เชิงบวกในแกนเดียว), MgF₂ แสดงการหักเหของแสงที่เป็นบวก (Δn data 0.012 ที่ 589 นาโนเมตร) ทำให้มีคุณค่าสำหรับโพลาไรเซอร์และแผ่นคลื่น ปรากฏเป็นผลึกโปร่งใสไม่มีสีหรือผงสีขาว มีความหนาแน่น 3.148 g/cm³ จุดหลอมเหลว 1263 °C จุดเดือด 2260 °C และความแข็ง Mohs 6 (แข็งกว่า CaF₂ ซึ่งให้ความต้านทานต่อการขีดข่วนได้ดีกว่า)

คุณสมบัติที่โดดเด่นที่สุดของมันคือช่วงความโปร่งใสที่กว้างเป็นพิเศษ ตั้งแต่ ~110 นาโนเมตร (VUV) จนถึงระดับที่มองเห็นได้ จนถึง ~9.5 μm (IR กลาง) ซึ่งเป็นหนึ่งในช่วงที่กว้างที่สุดในบรรดาของแข็งใดๆ ด้วยดัชนีการหักเหของแสงต่ำสุดในบรรดาของแข็งทนทานใดๆ (n_o = 1.3777, n_e = 1.3897 ที่ 589 nm; ฟิล์มบาง n ~1.38 ที่ 550 nm) และการกระจายตัวต่ำเป็นพิเศษ (Abbe ν_d พรีเมี่ยม 106), MgF₂ จึงเป็นชั้นดัชนีต่ำมาตรฐานอุตสาหกรรมสำหรับการเคลือบ AR แบบชั้นเดียวและหลายชั้น - ชั้นเดียว MgF₂ AR บนกระจกให้การสะท้อนขั้นต่ำ ~1.3 % ในรูปแบบฟิล์มบาง จะจับคู่กับ ZnS, LaF₃, HfO₂, TiO₂ หรือ CeO₂ สำหรับ AR, กระจก HR, ตัวแยกลำแสง และฟิลเตอร์ การรีฟริงก์ของมันทำให้เกิดโพลาไรเซอร์ประเภท VUV/UV Glan และแผ่นคลื่นที่แคลไซต์/ควอตซ์ดูดซับ

MgF₂ เกรดออพติคอลของเรามีจำหน่ายในรูปแบบผลึกเดี่ยว (Bridgman-Stockbarger, Czochralski หรือ HEM Grow), ออปติคอลแบลงค์, หน้าต่างขัดเงา, เลนส์, ปริซึม, โพลาไรเซอร์, แผ่นคลื่น และผง/แกรนูล/เม็ดสำหรับการเคลือบ ในเกรดความบริสุทธิ์ 3N–6N พร้อมการควบคุมโลหะติดตาม ppm ถึง ppb ผลิตผ่านการสังเคราะห์ HF ที่แม่นยำ การระเหิด/การทำให้บริสุทธิ์โซน และการเติบโตของผลึกเดี่ยว MgF₂ ของเราให้ประสิทธิภาพที่สม่ำเสมอ มีความสม่ำเสมอสูง (Δn <1×10⁻⁶) การเกิดไบรีฟริงก์ความเครียดต่ำ และการตรวจสอบย้อนกลับแบบแบตช์เต็มรูปแบบสำหรับการเคลือบด้วยแสง เลนส์เลเซอร์ การสร้างภาพ IR การทำการพิมพ์หินเซมิคอนดักเตอร์ การบินและอวกาศ และการประยุกต์ใช้ในการวิจัย

2. ข้อได้เปรียบที่สำคัญ

3. ฟังก์ชั่นและคุณสมบัติหลัก

● หน้าต่างและเลนส์โปร่งใส VUV/DUV — การส่งผ่านข้อมูลสูง (>90 % ไม่เคลือบผิว) ลงไปที่ ~110 นาโนเมตรสำหรับ VUV สเปกโทรสโกปี, เลเซอร์เอ็กไซเมอร์ F₂ 157 นาโนเมตร/ArF 193 นาโนเมตร, การพิมพ์หิน DUV, วิทยาศาสตร์บรรยากาศ และกล้องโทรทรรศน์ UV ในอวกาศ — โดยที่ซิลิกาที่หลอมละลายจะทึบแสง

● การเคลือบ AR ดัชนีต่ำมาตรฐานอุตสาหกรรม — n ~1.38 ซึ่งเป็นชั้นดัชนีดัชนีต่ำมาตรฐานอุตสาหกรรมสำหรับ AR เดี่ยว/หลายชั้นบนแก้ว พลาสติก คริสตัล และเลนส์โลหะ MgF₂ AR ชั้นเดียวบนกระจกให้การสะท้อนขั้นต่ำ ~1.3 % ซึ่งต่ำที่สุดในบรรดาการเคลือบชั้นเดียวที่ใช้งานได้จริง

● ออปติก UV-Vis-IR แบบบรอดแบนด์ — ความโปร่งใสดีเยี่ยม ~110 นาโนเมตร ถึง ~9.5 ไมโครเมตร สำหรับหน้าต่างบรอดแบนด์ เลนส์ ปริซึม และตัวแยกลำแสงในระบบหลายสเปกตรัมและเครื่องมือวัด UV/IR แบบรวม

● หน้าต่างและเลนส์ออพติคอล IR — ความโปร่งใสสูงถึง ~9.5 μm สำหรับการถ่ายภาพความร้อน (MWIR 3–5 μm, LWIR 8–12 μm), FTIR, CO₂/Er:YAG เลนส์เลเซอร์ และระบบ IR ระดับกลาง — มีความแข็งเชิงกลที่ดีกว่า (Mohs 6) มากกว่าวัสดุ IR ที่นิ่มกว่าหลายๆ ตัว (ZnSe, KRS-5, NaCl)

● วัสดุเลนส์ไม่มีสีและไม่มีสี — หมายเลข Abbe สูงเป็นพิเศษ (~106) ช่วยให้สามารถแก้ไขสีได้อย่างยอดเยี่ยมในการออกแบบเลนส์ที่ไม่มีสี/ไม่มีสีพิเศษสำหรับการถ่ายภาพ กล้องจุลทรรศน์ กล้องโทรทรรศน์ และเครื่องมือที่มีความแม่นยำเมื่อจับคู่กับแว่นตาที่มีการกระจายแสงสูง

● หน้าต่างเลเซอร์และออปติกกำลังสูง — LIDT สูง การดูดซับต่ำ ความไม่เป็นเชิงเส้นต่ำ และต้านทานการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลันสำหรับเอ็กไซเมอร์ (ArF/KrF/F₂), CO₂, ฮาร์โมนิก Nd:YAG และหน้าต่างเลเซอร์ที่เร็วเป็นพิเศษ ตัวเชื่อมต่อเอาท์พุต และเลนส์โฟกัส

● โพลาไรเซอร์แบบรีฟรินเจนต์ VUV/UV และเพลตคลื่น — การรีฟริงเจนต์แบบบวก (Δn ~0.012) และความโปร่งใสของ VUV/UV สำหรับโพลาไรเซอร์ชนิด Glan, เพลตแบบรีฟริงเจนต์แบบควอเตอร์/ครึ่งคลื่น และ PBS ในสเปกโทรสโกปี VUV/UV, การควบคุมโพลาไรเซชันด้วยเลเซอร์ excimer และรีลีสโซเมทรี UV — หนึ่งในวัสดุรีฟรินเจนต์ไม่กี่ชนิดที่มีความโปร่งใสต่ำกว่า 200 นาโนเมตร

● กระจก HR, ฟิลเตอร์ และการเคลือบตัวแยกลำแสง — สลับกับ ZnS, LaF₃, HfO₂, TiO₂ หรือ CeO₂ ทำให้เกิดกระจก DBR (การสะท้อนแสง>99.5 %), ฟิลเตอร์แถบแคบ/ขอบ/รอยบาก, ตัวแยกลำแสงไดโครอิก และ PBS ที่มีการสูญเสียต่ำและ LIDT สูง — มีประโยชน์อย่างยิ่งสำหรับกระจกเลเซอร์ UV

● การเคลือบป้องกันรังสียูวีและการทนต่อการขัดถู — การเคลือบป้องกันรังสียูวีที่โปร่งใสและทนต่อการเสียดสี (Mohs 6 ซึ่งมีความแข็งกว่าการเคลือบโพลีเมอร์) สำหรับเลนส์ UV, หน้าต่างอัลคาไลเฮไลด์ (NaCl, KBr, CsI), เซลล์แสงอาทิตย์ และพื้นผิวแสงที่ละเอียดอ่อน

● แก้วฟลูออไรด์และการใช้งานในอุตสาหกรรม — ส่วนประกอบในแก้วฟลูออไรด์ (ZBLAN) และไฟเบอร์ออปติก IR; เกรดอุตสาหกรรมที่ใช้เป็นฟลักซ์โลหะ (การผลิตเหล็ก การผลิต Mg/Al) วัตถุดิบฟลูออโรเคมี และฟลักซ์/ตัวทำให้ทึบแสงในเซรามิก/แก้ว/เคลือบฟัน

4. แอปพลิเคชันและช่วงการใช้งาน

4.1 การเคลือบด้วยแสงและเลนส์เลเซอร์ VUV/DUV

● การเคลือบ AR ชั้นเดียว/หลายชั้นสำหรับเลนส์กล้อง วัตถุประสงค์ของกล้องจุลทรรศน์ กล้องโทรทรรศน์ แว่นตา จอแสดงผล แผงโซลาร์เซลล์ และเลนส์เลเซอร์ — MgF₂ AR ชั้นเดียวบนกระจก ~การสะท้อน 1.3 %, หลายชั้น <0.1 % บนแถบความถี่กว้าง

● การเคลือบ UV/DUV AR สำหรับออปติกเลเซอร์ Excimer KrF 193 nm ArF และ 248 nm, การพิมพ์หิน DUV และสเปกโทรสโกปี UV — ความโปร่งใสของ UV สูงถึง ~110 nm และ LIDT สูงโดยที่ SiO₂ มีการดูดซับสูงกว่า

● กระจก HR และการเคลือบตัวสะท้อนด้วยเลเซอร์ — MgF₂/ZnS และ MgF₂/LaF₃ เรียงซ้อนสำหรับเอ็กไซเมอร์ (ArF 193 nm, KrF 248 nm), UV, CO₂ และ Nd:YAG เลเซอร์ฮาร์มอนิกที่มีการสะท้อนแสง >99.5 %

● VUV สเปกโทรสโกปีและอุปกรณ์ — หน้าต่าง เลนส์ และโพลาไรเซอร์สำหรับ VUV สเปกโทรสโกปี 110–200 นาโนเมตร เลนส์ซินโครตรอนบีมไลน์ วิทยาศาสตร์บรรยากาศ และกล้องโทรทรรศน์ VUV ในอวกาศ — โดยที่ซิลิกาที่หลอมละลาย (จุดตัด ~160 นาโนเมตร) และ CaF₂ (จุดตัด ~125 นาโนเมตร) มีการส่งผ่านที่จำกัด

● Excimer laser optics (ArF, KrF, F₂) — หน้าต่าง เลนส์ ปริซึม และส่วนประกอบที่เคลือบ AR สำหรับตัวสะท้อนเสียงเลเซอร์ 157 nm F₂, 193 nm ArF และ 248 nm KrF การส่งลำแสง และการประมวลผลออปติกที่มี LIDT สูงและอายุการใช้งานยาวนาน

● ระบบนำแสงการพิมพ์หิน DUV — ส่วนประกอบทางแสงและการเคลือบสำหรับการแช่ ArF 193 นาโนเมตร และระบบการพิมพ์หิน 157 นาโนเมตร F₂ รวมถึงระบบการส่องสว่าง/การฉายภาพ การเคลือบเส้นเล็ง/มาส์ก และเพลลิเคิลสำหรับโหนดเซมิคอนดักเตอร์ที่ต่ำกว่า 40 นาโนเมตร

4.2 เลนส์ IR การถ่ายภาพความร้อนและโพลาไรซ์

● หน้าต่าง เลนส์ และโดม IR สำหรับการถ่ายภาพความร้อน (MWIR 3–5 μm, LWIR 8–12 μm), ระบบ FLIR, FTIR, เครื่องวิเคราะห์ก๊าซ IR และการส่งเลเซอร์ IR — การส่งผ่าน IR แบบกว้างถึง ~9.5 μm พร้อมความแข็งที่ดีกว่า (Mohs 6) และความทนทานมากกว่า ZnSe, KRS-5, NaCl

● เลนส์เลเซอร์ CO₂ และ IR กำลังแรงสูง — หน้าต่างและเลนส์สำหรับเลเซอร์ CO₂ (10.6 μm, LIDT >15 J/cm² CW), Er:YAG (2.94 μm), He-Ne (3.39 μm) และเลเซอร์ควอนตัมคาสเคดที่มีการส่งผ่าน IR สูงและมีการนำความร้อนได้ดี

● โพลาไรเซอร์ VUV/UV และเพลตคลื่น — โพลาไรเซอร์ Glan-Thompson/Taylor/Foucault และเพลตสี่ส่วน/ครึ่งคลื่นสำหรับสเปกโทรสโกปี VUV/UV, การควบคุมโพลาไรเซชันด้วยเลเซอร์เอ็กไซเมอร์ และวงรี UV — หนึ่งในวัสดุไบรีฟริงเจนต์ไม่กี่ชนิดที่โปร่งใสต่ำกว่า 200 นาโนเมตร (จุดตัดแคลไซต์ ~250 นาโนเมตร)

● ระบบเลนส์ไม่มีสี/ไม่มีสี — วัตถุไม่มีสี/ซุปเปอร์อะโครมาติกสำหรับการถ่ายภาพระดับไฮเอนด์ กล้องจุลทรรศน์ กล้องโทรทรรศน์ เลนส์จำลอง และเครื่องมือที่มีความแม่นยำพร้อมการแก้ไขสีที่ยอดเยี่ยมตั้งแต่รังสี UV ใกล้ถึง IR ใกล้

4.3 การแพทย์ กลาโหม การบินและอวกาศ และอุตสาหกรรม

● เลเซอร์ออพติคทางการแพทย์ — หน้าต่าง เลนส์ และส่วนประกอบเคลือบ AR สำหรับเอ็กไซเมอร์ (เลสิค 193 นาโนเมตร), CO₂ (การผ่าตัด 10.6 ไมโครเมตร), Er:YAG (โรคผิวหนัง/ทันตกรรม 2.94 ไมโครเมตร) และเลเซอร์โฮลเมียม (ระบบทางเดินปัสสาวะ 2.1 ไมโครเมตร)

● เลนส์ด้านกลาโหมและการทหาร — มาตรการตอบโต้ IR การกำหนดเป้าหมาย การเล็งอาวุธความร้อน หน้าต่าง/โดมสำหรับค้นหาขีปนาวุธ เครื่องค้นหาระยะ/ตัวกำหนดระยะด้วยเลเซอร์สำหรับทหาร และเครื่องสร้างภาพความร้อนที่สวมใส่โดยทหารพร้อมประสิทธิภาพหลายสเปกตรัมที่ทนทาน

● เลนส์ทางดาราศาสตร์และอวกาศ — หน้าต่าง เลนส์ และสารเคลือบสำหรับกล้องโทรทรรศน์ UV/IR ในอวกาศ หอดูดาวสุริยะ วิทยาศาสตร์เกี่ยวกับดาวเคราะห์ และการสำรวจระยะไกลด้วยดาวเทียมพร้อมการส่งผ่าน VUV ไปเป็น IR ในวงกว้าง ต้านทานรังสีสูง และปล่อยก๊าซออกต่ำ

● โลหะวิทยาและเคมีอุตสาหกรรม — MgF₂ เกรดอุตสาหกรรมเป็นฟลักซ์ในการผลิตเหล็ก (EAF, โลหะทัพพี), การผลิต Mg/Al, วัตถุดิบฟลูออโรเคมี, ฟลักซ์/ตัวทำให้ทึบแสงในเซรามิก/แก้ว/เคลือบฟัน และส่วนประกอบฟลักซ์การเชื่อม

5. ข้อมูลจำเพาะของผลิตภัณฑ์

5.1 คุณสมบัติทางเคมีและกายภาพ

5.2 เกรดความบริสุทธิ์ที่มีอยู่

5.3 แบบฟอร์มผลิตภัณฑ์ที่มีอยู่

5.4 สารเจือปนโลหะทั่วไป (เกรดออปติคอล 4N)

6. องค์ประกอบและวัสดุ

● องค์ประกอบทางเคมี — ปริมาณสารสัมพันธ์ MgF₂: Mg 39.02 wt%, F 60.98 wt% เกรดที่มีความบริสุทธิ์สูงมีโลหะปริมาณน้อยและมี O/Cl/OH⁻ ที่ควบคุมได้ ความชื้นที่ถูกกำจัดออกโดยการเผา/การระเหิดและการเจริญเติบโตของผลึก

● โครงสร้างผลึก — รูไทล์แบบ tetragonal (P4₂/mnm, หมายเลข 136), isomorphous กับ TiO₂; Mg²⁺ ที่ตำแหน่ง tetragonal ที่มีศูนย์กลางของร่างกาย F⁻ ในการประสานกันของแปดด้านที่บิดเบี้ยว ค่าคงที่ของแลตทิซ a = 4.623 Å, c = 3.052 Å การรีฟริงก์ทางแกนเดียวที่เป็นบวก (Δn µ 0.012), การขยายตัวทางความร้อนแบบแอนไอโซทรอปิก (α_⊥ > α_∥), ความแตกแยกที่ดี {110} ไม่มีการเปลี่ยนเฟสต่ำกว่าจุดหลอมเหลว (1263 °C)

● คุณสมบัติทางแสง — คริสตัล: n_o = 1.3777, n_e = 1.3897 ที่ 589.3 นาโนเมตร; แอบบี ν_d data 106; ความโปร่งใส ~ 110 นาโนเมตร–9.5 ไมโครเมตร; การส่งผ่านภายใน >99 %/cm จาก 150 nm–7 μm (ความบริสุทธิ์สูง); ค่าสัมประสิทธิ์การดูดซับ <0.001 cm⁻¹ ที่ 193 nm (5N+), <0.0005 cm⁻¹ ที่ 10.6 μm; แบนด์แกป ~10.8 eV; การรีฟริงเจนต์ของความเครียด <1 นาโนเมตร/ซม. (อบอ่อนอย่างดี); ความสม่ำเสมอ Δn <1×10⁻⁶ ฟิล์มบาง: n data 1.37–1.40 ที่ 550 nm, k <10⁻⁴, ความหนาแน่น 2.6–3.0 g/cm³ (83–95 % จำนวนมาก; IAD >95 %)

● ความร้อนและเครื่องกล — การหลอมละลาย 1263 °C จุดเดือด 2260 °C ความหนาแน่น 3.148 g/cm³, Mohs 6, Vickers ~5.8 GPa, Young's ~138 GPa, K_IC ~1.0–1.5 MPa·m^½ (ดีกว่า CaF₂), CTE α_⊥ data 13.7, α_∥ data 8.5 ×10⁻⁶/°C (แอนไอโซโทรปิก), ค่าการนำความร้อน ~10–15 W/m·K (สูงกว่า CaF₂), ความต้านทานการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลัน R ~80 °C (ปานกลางถึงดี) ความแตกแยกที่ดี {110} — ต้องมีการจัดการอย่างระมัดระวังและต้องมีการป้องกันขอบ

● ความคงตัวทางเคมี — ละลายได้ในน้ำเล็กน้อยมาก (~0.0076 ก./100 มล. น้อยกว่า CaF₂) ละลายได้ในกรดแร่เข้มข้น (ปล่อย HF) และเกลือแอมโมเนียม ไม่ละลายในตัวทำละลายอินทรีย์ส่วนใหญ่ มีความเสถียรต่อด่างที่อุณหภูมิห้อง ค่อย ๆ ทำปฏิกิริยากับความชื้น >800 °C ทำให้เกิด MgO และ HF ผลึกหนาแน่นทนทานต่อสารเคมีและกันความชื้น (ดีกว่า CaF₂, BaF₂, อัลคาไลเฮไลด์) โดยทั่วไปเฉื่อยทางชีวภาพและไม่เป็นพิษ; ฝุ่นละเอียดอาจทำให้เกิดอาการระคายเคืองต่อทางเดินหายใจ

● การเติบโตของคริสตัลและวัตถุดิบ — เติบโตโดย Bridgman-Stockbarger การแช่แข็งแบบไล่ระดับแนวตั้ง (โดยทั่วไป ขนาดใหญ่ Ø50–200 มม.) การดึง Czochralski (คุณภาพสูงที่มีขนาดเล็กกว่า) หรือวิธีแลกเปลี่ยนความร้อน (HEM พื้นที่ขนาดใหญ่) อัตราการเติบโต 0.5–5 มม./ชม. อบอ่อนหลังการเจริญเติบโต 500–900 °C เป็นเวลา 24–100 ชม. วัตถุดิบจาก MgCO₃ หรือ MgO ที่มีความบริสุทธิ์สูงทำปฏิกิริยากับ HF หรือ NH₄HF₂ เกรดอิเล็กทรอนิกส์ ฟลูออไรด์โดยตรงทางเลือกของโลหะ Mg/ออกไซด์; การระเหิด/การกลั่นโซนสำหรับเกรด 5N/6N แหล่ง Mg ต้องควบคุม Ca, Sr, Ba และโลหะทรานซิชัน แหล่งกำเนิด HF ควบคุม As, S และโลหะหนัก

7. บรรจุภัณฑ์และการเก็บรักษา

7.1 ตัวเลือกบรรจุภัณฑ์

7.2 การติดฉลาก เอกสาร และการจัดเก็บ

● การติดฉลาก — ชื่อผลิตภัณฑ์, CAS, สูตร, เกรดความบริสุทธิ์, การวางแนวคริสตัล, ขนาด, ขนาด/รูปแบบของอนุภาค, ข้อมูลจำเพาะของสิ่งเจือปน, ปริมาณ OH⁻ (เกรด IR), หมายเลขชุดงาน, วันที่ผลิต, น้ำหนักสุทธิ และข้อมูลด้านความปลอดภัย

● เอกสารประกอบ — SDS และ COA พร้อมด้วยการวิเคราะห์โลหะติดตาม ICP-OES/ICP-MS, PSD, ความหนาแน่นรวม, ความชื้น, LOI, XRD; เกรดคริสตัลออพติคอลประกอบด้วยการส่งผ่าน UV-Vis-NIR/VUV, FTIR (OH⁻), ทรงรี, เลเซอร์อินเตอร์เฟอโรเมทรี (ความเป็นเนื้อเดียวกัน, หน้าคลื่น), การเกิดปฏิกิริยาไบรีฟริงเจนซ์; เกรดการเคลือบรวมถึงการตรวจสอบการทดลองการสะสมของฟิล์มบาง

● การจัดเก็บและขนส่ง — ภาชนะปิดผนึกและกันความชื้นที่อุณหภูมิ 15–25 °C, <60 % RH ห่างจากกรด/ด่างแก่ เกรดออปติคอล (4N+) ในบรรจุภัณฑ์ที่กำจัดอาร์กอน เลนส์ขัดเงาในกล่องกันกระแทกที่สะอาดพร้อมเนื้อเยื่อเลนส์และสารดูดความชื้น เลนส์ VUV/IR ในภาชนะปิดผนึกด้วยไนโตรเจน อายุการเก็บรักษา: 24–36 เดือน (มาตรฐาน), 12–24 เดือน (ออพติคอลที่มีความบริสุทธิ์สูง); เลนส์ขัดเงาไม่มีกำหนดหากจัดเก็บอย่างเหมาะสม หลีกเลี่ยงการขนส่งด้วยกรดแก่ (ปล่อย HF)

8. คำถามที่พบบ่อย

คำถามที่ 1: ฉันควรเลือกเกรดความบริสุทธิ์และรูปแบบผลิตภัณฑ์ใด

● หน้าต่างที่มองเห็น/ใกล้เคียง IR และเลนส์ที่ไม่สำคัญ: หน้าต่าง/เลนส์ขัดเงา 3N หรือผง/เม็ด 3N (โลหะติดตาม <1,000 ppm)
● UV/DUV และเลนส์เลเซอร์กำลังสูง: ผลึกเดี่ยวหรือเม็ด/แกรนูลขนาด 4N หรือ 5N (โลหะติดตาม <100 หรือ <10 ppm) เพื่อการดูดซับน้อยที่สุดและ LIDT สูงที่ 193/248/10.6 μm
● การพิมพ์หิน VUV (157 nm F₂, 193 nm ArF), VUV สเปกโทรสโกปี, เส้นใยที่มีการสูญเสียต่ำเป็นพิเศษ: ผลึกเดี่ยวที่มีความเป็นเนื้อเดียวกันสูง 6N (Bridgman/HEM โต, อบอ่อนอย่างดี) หรือชิ้น/เม็ดเกรดการระเหิด (โลหะปริมาณน้อย <1 ppm)
● หน้าต่าง IR/การถ่ายภาพความร้อน (3–12 μm): ผลึกเดี่ยว 3N หรือ 4N พร้อมการควบคุม OH⁻ (<50 ppm); หน้าต่างเลเซอร์ CO₂ กำลังแรงสูง (10.6 μm): 4N/5N ที่มีการดูดซับต่ำ (<0.0005 cm⁻¹)
● โพลาไรเซอร์ VUV/UV และเพลตคลื่น: ผลึกเดี่ยว 4N/5N ที่มีการวางแนวแกน c ที่แม่นยำ (ตรวจสอบด้วยเอ็กซ์เรย์แล้ว) อัตราส่วนการสูญพันธุ์สูง (>10⁴:1) การรีฟริงก์ของความเค้นต่ำ
● การสะสมของชั้นเคลือบ: เม็ด (Ø1–6 มม.) เหมาะสำหรับ e-beam/การระเหยด้วยความร้อนเพื่อลดการคายน้ำ การสปัตเตอร์: เป้าหมาย 4N/5N แบบกำหนดเอง (Ø25–200 มม. ความหนาแน่น >95 %)
● ละลายหรือปรับสภาพวัตถุดิบก่อนการสะสมเสมอ ยืนยันการวางแนวของคริสตัล (แกน c ตั้งฉากสำหรับหน้าต่าง/เลนส์) คุณภาพการอบอ่อน และความสม่ำเสมอของออปติกคริสตัลเดี่ยว

คำถามที่ 2: จะจัดการ จัดเก็บ และทำความสะอาดส่วนประกอบออปติคัล MgF₂ ได้อย่างไร

● การเก็บรักษา: เลนส์ขัดเงาในกล่องปิดผนึก สะอาด ปราศจากฝุ่น มีกระดาษทิชชู่เลนส์และสารดูดความชื้นที่อุณหภูมิ 15–25 °C, <60 % RH; VUV/ออปติก IR กำลังสูงในภาชนะที่กำจัด N₂ หรือปิดผนึกสุญญากาศ เพื่อป้องกันการปนเปื้อนบนพื้นผิวและการดูดซับความชื้น วัสดุเคลือบที่มีความบริสุทธิ์สูง (4N+) ในบรรจุภัณฑ์ที่ปิดผนึก ป้องกันความชื้น และกำจัดอาร์กอน 5N/6N ในกล่องแห้ง/เครื่องดูดความชื้น อายุการเก็บรักษา 12–24 เดือน (มีความบริสุทธิ์สูง); เลนส์ขัดเงาไม่มีกำหนดหากจัดเก็บอย่างเหมาะสม
● การจัดการ: สวมถุงมือไนไตรล์/PTFE ไร้แป้ง ใช้เครื่องมือสแตนเลส, PTFE หรือ HDPE ที่สะอาด (หลีกเลี่ยง Al, Cu, เหล็กเหนียว) MgF₂ มีความแตกแยกที่ดี {110} และ Mohs 6 — จับที่ขอบ หลีกเลี่ยงการกระแทกและแรงกดที่ขอบมากเกินไป ใช้ขอบที่เอียง/ลบมุม อย่าใช้การทำความสะอาดอัลตราโซนิกกับเลนส์ขนาดใหญ่หรือไวต่อขอบ (เสี่ยงต่อการบิ่น/แตกร้าว)
● การทำความสะอาด: IPA อะซิโตน เมทานอล หรือเอทานอลมีความปลอดภัย (ไม่ละลายในตัวทำละลายอินทรีย์) แนะนำให้ใช้การลากทำความสะอาดด้วยทิชชู่เลนส์ อัลตราโซนิกพลังงานต่ำสั้นๆ สำหรับออปติกขนาดเล็กที่แข็งแกร่งเท่านั้น (ตรวจสอบก่อน) หลีกเลี่ยงการสัมผัสน้ำเป็นเวลานาน กรดแก่ (ปล่อย HF) และด่างแก่ สำหรับเลนส์ VUV/LIDT สูง ให้ใช้ตัวทำละลายเกรด CMOS ขั้นตอนห้องสะอาดที่เข้มงวด และการทำความสะอาดโอโซนพลาสมา/UV ในขั้นสุดท้าย เป่าให้แห้งด้วยไนโตรเจนแห้งที่สะอาด ตรวจสอบภายใต้แสงสว่าง
● การเตรียมแหล่งเคลือบ: ปรับสภาพเม็ด/แกรนูลภายใต้สุญญากาศ (10⁻⁵–10⁻⁶ Torr) ที่อุณหภูมิ 300–500 °C เป็นเวลา 30–60 นาที; ใช้ถ้วยใส่ตัวอย่าง W, Ta, Mo หรือคาร์บอนแก้วที่สะอาด (หลีกเลี่ยงอลูมินาที่อุณหภูมิสูง) e-beam: ทำความสะอาดซับเตาทองแดง ละลายก่อนเปิดชัตเตอร์ การสปัตเตอร์: ทำความสะอาดเป้าหมายด้วย IPA, การสปัตเตอร์ล่วงหน้า 5–10 นาที
● ความปลอดภัย: โดยทั่วไปไม่เป็นพิษและเฉื่อยทางชีวภาพ แต่ฝุ่นละเอียดอาจระคายเคืองต่อทางเดินหายใจ/ดวงตา/ผิวหนัง — จัดการผงในตู้ดูดควันด้วยหน้ากาก N95/P100 หลีกเลี่ยงการสัมผัสกับกรดแก่ (ปล่อย HF - มีเจลแคลเซียมกลูโคเนต) ปรึกษา SDS ก่อนการจัดการ